NEI

Processadora de fotorresistivos suporta wafers de até ø 300 mm

Descrição do produto

Projetada especificamente para combinar procedimentos experimentais e comprovados de revestimento/revelação com conceitos inovadores em processos de fabricação de wafers, apresenta módulo rotativo de 5.000 rpm com exatidão de ±1 rpm, sistema de metrologia em linha para a validação de resultados e suporte para até nove módulos individualmente combináveis em modo paralelo. A EVG150XT aplica revestimentos em filmes fotorresistivos (resists) de 1 a 100 µm de espessura, utiliza o conceito XT Frame de produção e conta com sistema de transporte linear de alta velocidade. De simples operação, processa ampla variedade de materiais, como resists positivos, negativos e de alta viscosidade, poliimidas e dielétricos aplicáveis por rotação.


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